Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials
| dc.contributor.advisor | Bramer Escamilla, Werner | |
| dc.contributor.author | Tinoco Mosquera, Fabián Patricio | |
| dc.date.accessioned | 2021-01-08T17:24:11Z | |
| dc.date.available | 2021-01-08T17:24:11Z | |
| dc.date.issued | 2020-12 | |
| dc.description | In the following work we are going to describe the operation of an equipment capable of measuring the film thickness of a silicon oxide sample placed on a silicon substrate, this equipment uses an optical characterization technique called spectral reflectance. In order to achieve that, first we address the theory necessary to understand the operation of the equipment, we do this for each part of the measurement equipment such as: light source, fiber optics splitter, spectrometer, and sample. Later we present a design proposal for a device with the same characteristics and that uses the same characterization technique. The choice of components for our proposal is taken taking into account different technical and cost parameters. It is expected that in the future this design proposal can be used to build and implement this equipment in the laboratories of Yachay Tech University. This tool will provide students and teachers with the capacity to characterize silicon oxide thin film depositions for their learning or research activities. In this way, a positive impact will be created for Yachay Tech University | es |
| dc.description.abstract | En el siguiente trabajo vamos a describir el funcionamiento de un equipo capaz de medir el espesor de película de una muestra de óxido de silicio sobre un sustrato de silicio, este equipo utiliza una técnica de caracterización óptica llamada reflectancia espectral. Para lograr eso, primero abordamos la teoría necesaria para comprender el funcionamiento del equipo, esto lo hacemos para cada parte del equipo de medición, las cuales son: fuente de luz, divisor de fibra óptica, espectrómetro y muestra. A continuación, presentamos una propuesta de diseño para un dispositivo con las mismas características y que utiliza la misma técnica de caracterización. Para la elección de los componentes de nuestra propuesta, se toma en cuenta diferentes parámetros técnicos y de costos. Se espera que en el futuro esta propuesta de diseño se pueda utilizar para construir e implementar este equipo en los laboratorios de la Universidad Yachay Tech. Esta herramienta proporcionará a los estudiantes y profesores la capacidad de caracterizar deposiciones de película delgada de óxido de silicio para sus actividades de aprendizaje o investigación. De esta manera, se creará un impacto positivo para la Universidad Yachay Tech | es |
| dc.description.degree | Ingeniero/a en Nanotecnología | es |
| dc.identifier.uri | http://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/288 | |
| dc.language.iso | eng | es |
| dc.pagination.pages | 78 páginas | es |
| dc.publisher | Universidad de Investigación de Tecnología Experimetal Yachay | es |
| dc.rights | openAccess | es |
| dc.subject | Espesor | es |
| dc.subject | Reflectancia espectral | es |
| dc.subject | Interferencia | es |
| dc.subject | Equipamiento | es |
| dc.subject | Fibra óptica | es |
| dc.subject | Thickness | es |
| dc.subject | Spectral reflectance | es |
| dc.subject | Interference | es |
| dc.subject | Equipment | es |
| dc.subject | Fiber optic | es |
| dc.title | Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials | es |
| dc.type | bachelorThesis | es |